葉面積指數(shù)是果樹冠層生物學(xué)特征的一個重要參數(shù)，它可以影響果園的產(chǎn)量、品質(zhì)以及光能的截獲，在一定程度上決定了果園的生產(chǎn)效率。測量葉面積指數(shù)的方法有直接測量法和間接測量法，直接測量法具有破壞性，且費時費力、不能重復(fù)，操作困難難以測量葉面積的動態(tài)變化等。間接測量法分為相對生長法和光學(xué)法，應(yīng)用比較廣泛。
    植物冠層分析儀就是屬于光學(xué)法的，特點是攜帶方便，不需要進(jìn)行額外的資料處理，可以直接給出葉面積指數(shù)值，原理是在假定植物冠層內(nèi)的各元素隨機分布，依據(jù)冠層間隙度或光學(xué)特性反演葉面積指數(shù)。缺點是測量所得葉面積指數(shù)有著較大的偏差。葉片的聚集效應(yīng)越強，偏差越大。因此在測量時，一般需要用直接法校正。
    測量時根據(jù)果園的大小。分別設(shè)置3-5個測量點，在每個測量點再分別用方框取樣法和冠層分析法測量葉面積指數(shù)。方框取樣法是將方框隨機放在樹冠上，將方框內(nèi)的的葉片全部摘下，用葉面積儀測量框內(nèi)的葉面積，然后根據(jù)樹冠體積和栽植密度計算葉面積指數(shù)。測點的選擇與冠層分析儀方法相同。冠層分析儀是分別對應(yīng)測量天空5個范圍的散射輻射，這5個范圍的中心視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°，分別與冠層上部和下部測量輻射通透密度，并根據(jù)轉(zhuǎn)換模型估算葉面積指數(shù)。在每一個測點的冠層頂部測一次，下部重復(fù)測量6-10次，冠層下方的測量在同一水平面上，且在無直接輻射的條件下進(jìn)行。為了避免光環(huán)境迅速的變化對測量結(jié)果的影響，選擇無直接輻射的條件下進(jìn)行，然后用冠層分析儀附帶的軟件對測量的資料進(jìn)一步加工以校正估值葉面積指數(shù)。
    在密植園中，用方框取樣法測得的葉面積指數(shù)范圍在3.2-5.8之間，其平均值5.0±0.2；校正前用冠層分析儀估計葉面積指數(shù)在2.3-4.8之間，其平均值為3.3±0.2，冠層分析法低估了32.0%。校正后，冠層分析儀估計的葉面積指數(shù)范圍在2.5-5.2之間，其平均值為4.4±0.1，比校正前提高了33.3%，且通過校正冠層分析儀的估計值減少到了12.0%。在間伐園，用方框取樣法測得的葉面積指數(shù)在2.3-4.6之間，其平均值為3.6±0.2，而校正前用冠層分析儀估計葉面積指數(shù)在1.2-3.3，其平均值為2.0±0.2，冠層分析儀低估了35.5%。與密植園相比，間伐園的葉面積指數(shù)較小，通過校正后冠層分析儀的葉面積指數(shù)在1.4-3.9之間，其平均值為2.7±0.2，比校正前提高了35.0%,通過校正后減少到了12.9%。